三維激光直寫(xiě)光刻機(jī)的簡(jiǎn)介和主要性能參數(shù)

　　三維激光直寫(xiě)光刻機(jī)提供豎直和掃描直寫(xiě)模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動(dòng)光學(xué)聚焦系統(tǒng)，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配，增強(qiáng)清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫(xiě)不僅具有無(wú)掩模板直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書(shū)寫(xiě)速度和低成本的特點(diǎn)。

　　三維激光直寫(xiě)多個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對(duì)基片上無(wú)需高分辨率的部分進(jìn)行高速書(shū)寫(xiě)曝光，之后自動(dòng)切換高分辨激光，并對(duì)需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了好的平衡，并通過(guò)軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。激光直寫(xiě)內(nèi)置自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)通過(guò)調(diào)節(jié)基片臺(tái)在Z方向的位置，對(duì)基片上的紅色激光斑進(jìn)行自動(dòng)對(duì)焦。只需單擊軟件上的對(duì)焦鍵就能完成對(duì)新放入的基片對(duì)焦。

　　三維激光直寫(xiě)簡(jiǎn)介：

　　傳統(tǒng)的光刻工藝中一般使用鉻玻璃掩模板進(jìn)行圖案的曝光轉(zhuǎn)移，鉻玻璃掩模板需要定制加工，若調(diào)整圖案就要重新加工。在科研過(guò)程中，掩模版圖案的形狀、尺寸經(jīng)常需要調(diào)整，而無(wú)掩模激光直寫(xiě)技術(shù)使用LayoutEditor、L-Edit、AutoCAD等軟件設(shè)計(jì)的電子掩模版，通過(guò)電腦控制激光掃描，不需要物理掩模板即可在光刻膠上繪出所要的圖案，完成圖案的曝光轉(zhuǎn)移，極大地提升了科研效率。

　　三維激光直寫(xiě)主要性能參數(shù)：

　　（1）采用405 nm激光光源，適用于大部分光刻膠產(chǎn)品。

　　（2）該系統(tǒng)通過(guò)光聚焦或氣聚焦自動(dòng)對(duì)焦到樣品表面，可保證曝光分辨率。通過(guò)自動(dòng)對(duì)焦可以識(shí)別樣品尺寸并進(jìn)行圖案的傾斜校正。

　　（3）該系統(tǒng)參數(shù)控制靈活，可以通過(guò)設(shè)置激光曝光能量（Dose）和聚焦度（Defocus）序列來(lái)快速確定最佳曝光參數(shù)。

　　（4）該系統(tǒng)可靠性高，擁有高直寫(xiě)速度（≥10 cm?/min），高圖形分辨率（≤1μm）、高套刻精度（≤500 nm）的特點(diǎn)。

　　（5）該系統(tǒng)支持GDSⅡ、CIF、DXF、Geber (RS-274X) 等圖形格式。