無掩膜直寫光刻設備擁有跨尺度納米級三維加工能力

電子/半導體器件

微/納電機系統

自旋電子學

傳感器

微流控

材料科學

生物實驗室芯片

光子學

主要特點：

適用于大規模生產和工業級應用

從納米級到十微米多種加工模式，實現更高的加工精度與速度

加工圖案預覽功能和對準誤差補償

加工面自動平整和自動聚焦，保證加工一致性

全自動化的可視控制系統與圖形化編程語言的應用，顯著提升設備調控的靈活性與自主性

更高的對準、拼接和套刻精度

長時穩定性控制系統，保證加工穩定性余一致性

更大的加工區域，適用不同尺寸基材，提供自動化樣品吸盤夾具

跨尺度納米級三維加工能力，魔技納米深入生物醫藥、維納光學、光電通信、新材料、防偽等多領域，結婚自研設備，摸索并形成面向多個行業應用的成熟的加工工藝。